ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望 EUVLに対抗する注目の次世代半導体微細加工技術および離型性課題克服に向けた取り組み/単行本
この商品の詳細
- 出版社
- AndTech
- 出版社シリーズ
- ISBN
- 4909118790
- サイズ
- 単行本
- 発売年月日
- 2025年03月01日
この商品の紹介
ナノインプリント・リソグラフィのメカニズム、半導体微細加工の応用に向けた各種取り組み、装置の開発と実用化、デバイス適用への見通しや、離型性課題の評価と対策を紹介。国内外の動向と今後の展望も論じる。
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