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平成30年・令和元年改正を反映。特許料等の軽減措置を拡大。侵害訴訟でのインカメラ手続拡充。損害賠償額の算定方法見直し、査証制度の創設。意匠法保護対象の拡充と関連意匠制度の見直し等。

目次 ：序章 知的財産権制度とは何か;第1章 特許法のあらまし;第2章 実用新案法のあらまし;第3章 意匠法のあらまし;第4章 商標法のあらまし;第5章 不正競争防止法のあらまし;第6章 著作権法のあらまし;第7章 産業財産権に関する国際的枠組み

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