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薄膜技術が時代を支えているといっても過言ではない。高度情報化社会の到来により種々の情報・映像機器が登場しているが、これらの機器のキーデバイスとなる超ＬＳＩ、ディスプレイ、磁気メモリ、光ディスクなどの作製に必須の技術となっているからである。本書ではこの技術の基礎から具体的な形成・加工技術、さらには広汎な応用技術までを詳説している。

目次 ：第１章　はじめに；第２章　薄膜技術の基礎（薄膜技術における真空、気体の性質；原子・分子の励起・電離と衝突過程　ほか）；第３章　薄膜形成技術（薄膜形成の基礎；各種薄膜形成技術―Ｉ（ＰＶＤ）　ほか）；第４章　加工技術（はじめに；ドライエッチング技術の基礎　ほか）；第５章　薄膜技術の応用（センサ；半導体デバイス　ほか）

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